中国半导体领域在国际上面一直处于短板，几乎是被美国一家全部给垄断，在全球的半导体行业中美国占据了51%，中国仅仅占据了2%剩下的被其他国家所占据，从这一数据就能够看出来这之间的差距有多么的大。

为了摆脱这一种半导体产业的约束，中国开始大力的发展半导体产业，在一期投资资金接近1000亿，而实际投资更是达到了1387亿元，基本上覆盖了半导体产业链中最核心的企业。

作为一个拥有巨大潜力的市场，国外众多的半导体巨头，纷纷加大了对中国半导体的投资，在高端光刻机被荷兰的ASML企业垄断情况下，长江存储的3台DUV浸没式光刻机，则是ASML第四代的产品。

我国目前为国产光刻机做配套的企业也是非常的多，按照这样的一个进程来推算的话，在明年193纳米干式光刻机将会正式下线，通过多重的曝光技术做到28纳米的光刻工艺，在芯片制程工艺方面中国无数的企业，都在不断的研发突破。

但是因为缺少了一些关键性的技术，所以说对比国外的一些企业来讲，速度上面还是有一些不小的差距，不过相信凭借中国钻研精神，破冰成功也是迟早的事情而已，你们怎么看这件事情?欢迎评论区留言关注!