我国现在对于半导体的需求已经超过了全球近三分之一，正是因为我们的需求量大，而又需要面对美国对我们的技术封锁，我国最大的困境就是不能拥有独立自主知识产权的芯片技术，很多方面都是需要进口的。如今，国产光刻机研发成功，网友：终于等到了!

据报道，上海微电子技术有限公司研发的22nm光刻机再次取得突破，成功打破西方技术垄断。公司采用紫外光源成功实现了22nm工艺，使国内光刻技术进步了一大步。如果光刻技术稳定，能够实现大规模量产，将有利于国内芯片制造业的发展。

这是一个很重要的科技进步，并且在技术上我们已经超越了日本，成为了位居荷兰之后的全球第二位，其实荷兰的光刻机其中有不少都是美国的专利，所以他想遏制住我们是很简单的，但是我们有了自己的光刻机那就会扭转局势。

22nm光刻机研制的成功也让我们看到了我国光刻机发展的新突破，特别是对于未来中国芯片市场的发展，这无疑是至关重要的一环。不过，中国在半导体领域取得了新突破。但是，从国际市场形势的变化来看，国内光刻机的研发还有很长的路要走。